Metal Lift-off金屬去光阻設備│

特點

1.全客製化，有整槽的Batch式和個別清潔的Single Wafer式。亦可兩者合併使用。
2.ISF系統(Inline Sludge Filtration)可有效回收金屬屑且不需維修。大於10μm的捕集能力為98%以上(純水狀態，原廠實績)。
3.在藥液循環系統中追加Suffix系統來去除氣蝕現象以顯著提高超音波之效率。
4.Single Wafer洗淨時，除了領先業界的高壓沖洗之外，更導入防止金屬屑飛散之噴嘴，加強洗淨效率及回收能力。
5.導入➀液體中高壓噴射 ②快速排水 ③2流體(液+氣體)噴射洗淨功能來強化較難清洗的製程。